[SK머티리얼즈퍼포먼스] [신입] Photo Resist 연구개발원 모집
공고 요약
주요업무
반도체용 Photo Resist 개발
조성 설계 및 핵심 원재료(Resin/PAG 등) 구조 Design
Litho 평가 DOE 수립, 평가 Data 해석, Trouble-Shooting
제품개발 관련 고객사 기술 지원 및 불량 원인 분석
필수역량
유기화합물 및 분자 간 상호작용 이해
구조·물성·성능 간 관계를 화학적으로 설명하는 학문적 지식
목표 물성 확보를 위한 핵심 원재료 설계 및 최적화 구조 후보군 도출
원재료 물성·구조 데이터 해석 및 신규 분석법 개발·적용
양산 적합성 검증 및 판정
생성형 AI 도구를 활용한 정보 탐색·정리·분석
우대사항
Photo Resist 또는 반도체 소재 개발 경험
Lithography 평가 또는 DOE 설계 경험
데이터 분석을 통한 연구개발 과제 인사이트 도출 경험
마감기한
2026년 9월 29일 23:59까지
공고 원문
![에스케이스페셜티 [SK머티리얼즈퍼포먼스] [신입] Photo Resist 연구개발원 모집 채용공고](https://d6hz931zw9by2.cloudfront.net/crawler/229f8de3-7abe-475f-b851-6198a949fbf0)
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